1.光电行业用水水质要求：

这类光电光学产品对水质要求十分高，出水水质一般要求在15兆欧以上。

主要用于超声波清洗时的纯水水洗槽，进水方式主要采用水逆流方式。

2. 用水量：

小型生产线如：一条长10米左右的清洗线一般一天用水10T左右。

大型生产线：一条50米的清洗线一般一天用水50T左右

3.设备要求：

根据用水水质要求，光电光学超纯水设备主要选用以下两种制水流程：

1）采用反渗透+混床+核能级混床工艺

2）采用反渗透+EDI+核能级混床工艺

以上两种超纯水设备均能达到出水水质在15兆欧以上。

4.设备一般流程：

光电光学超纯水设备一般采用下述流程（HDL-RO/RM系列）：

原水箱—原水泵—砂滤器—碳滤器—软水器（如果当地水质比较好可以省去）—精密过滤--反渗透—纯水箱—混床增压泵—混合离子交换器—核能级混床--用水点

或采用另一种设备配置（HDL-RO/EDI系列）：

原水箱—原水泵—砂滤器—碳滤器—软水器—精密过滤--双级反渗透—纯水箱—EDI增压泵—EDI系统—超纯水箱—核能级混床—用水点

5.设备模块作用：

光电光学超纯水设备主要由预处理、主机部分提纯部分构成，各部件用用如下：

预处理：原水箱、原水泵、砂滤器、碳滤器、软水器构成了超纯水设备的预处理部分，预处理主要去除水中的泥砂、有机物、悬浮物、余氯并降低水的硬度。确保进水符合反渗透系统的要求。

预处理中砂滤器中对砂的要求较高。需要严格按照砂的大小进行装配，特别注意的是最表层的砂需在装配0.5左右的细砂，调试在10公分左右。

主要机部分主要由精密过滤器与反渗透组成，此部分的主要作用是将自来水处理成小于10us以下的纯水。反渗透需要选用好的膜元件，最好的反渗透元件可选用美国陶氏膜元件，可以确保反渗透的使用。初期出水水质可以达到5us以下。

提纯部分选用混床系统或EDI系统，将反渗透出水水质在5us以下的水质提纯到15兆欧以上，再通过核能级混床水质可长期稳定。